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특허발명의 명칭 : X선
촬영 시스템을 위한 최적 촬영조건 결정 방법
특허 출원일자 : 2017.10.23
특허 등록일자 : 2019.09.05
특허 등록번호 : 10-2020836
발명의 요지
본 발명의 일 실시예에 따른 최적 촬영조건 결정 방법은, (A10) 인체 모형에 대한 X선 영상을 얻는 단계; (A20) 픽셀 밝기와 피폭선량 간의 함수 관계를 이용하여 상기 X선
영상 내 모형영역에 대한 피폭선량(σtotal)을 산출하는 단계; (A30) 상기
X선 영상 내 관심영역의 픽셀 밝기 분포를 나타내는 히스토그램을 얻고 상기 히스토그램의 변량들을 대표하는 대표값 및 상기 히스토그램의
산포도를 나타내는 지표값을 산출하는 단계; (A40) 상기 대표값이 제1 기준값 이상일 것을 요구하는 제1 기준조건, 상기 지표값이 제2 기준값 이상일 것을 요구하는 제2 기준조건 및 상기 피폭선량(σtotal)이 제3 기준값
이하일 것을 요구하는 제3 기준조건이 모두 만족되는지를 판단하는 단계;
(A50) 상기 판단 결과 상기 제1 내지 제3 기준조건이
모두 만족되는 않는 경우 적어도 하나의 다른 촬영조건으로 상기 A10 내지 A40 단계를 반복하는 단계; 및
(A60) 상기 제1 내지 제3 기준조건을 모두
만족시키는 촬영조건을 최적의 촬영조건으로 결정하는 단계;를 포함한다.
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